丸ス釉薬 合資会社

コージェライト素地・フォルステライト等のファインセラミックス合成原料や工業用釉薬の製造販売 丸ス釉薬

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製品紹介

取扱い合成原料

合成コージェライト SS-8 SS-600
    SS-400
    SS-200
    SS-200
  K-12 K-200
  C-20 C-200
  C-60 C-200
合成フォルステライト FF-8 FF-200
合成チタン酸アルミ TA-3  
合成β-ユークリプタイト   FE-200
合成β-スポジュメン   FSP-200
合成ムライト MM- - MF-200
焼成タルク FT-1300  

 

合成原料製造工程

 

アルミナ磁器素地

・AES-11 Al2O3/99.5%     焼成温度/1600℃
・CH-96 Al2O3/96.0%     焼成温度/1600℃
・CH-92 Al2O3/92.0%     焼成温度/1580℃
・I-13 Al2O3/80.0%     焼成温度/1420℃
・A-11 Al2O3/60.0%     焼成温度/1300℃

 

アルミナ素地

・スタンダード Al2O3/70~85%
・ローソーダ Al2O3/85~90%

 

高強度磁器素地

・AM-2 白色度が高い素地  焼成温度/1300℃
・MK-30 焼成温度/1300℃

 

フォルステライト素地

・FM-5 合成フォルステライトを主成分   焼成温度/1300℃
・FK-5 合成フォルステライトを主成分   焼成温度/1400℃

 

無アルカリアルミナ磁器素地

・ALA-60 Al2O3/60%   焼成温度/1300℃  高温絶縁に優れ高強度

 

ムライト磁器素地

・FCM-4 ムライトの特性を損なわず低温焼成が可能  焼成温度/1350℃

 

ジルコン素地

・ZKH ZrO2/55~60%

 

ジルコン・コージ磁器素地

・SCZ-101 セルフグレイズ素地  焼成温度/1320℃  低膨張
・CZ-29 セルフグレイズ素地  焼成温度/1280℃
・KCZ-3 セルフグレイズ素地  焼成温度/1250℃

 

ジルコン・コージ素地

・SZ-20 ポーラスタイプ
・GZ-30 ポーラスタイプ

 

コージェライト磁器素地

・JSK 焼成温度/1300℃  低熱膨張
・CJ-5 焼成温度/1300℃  低熱膨張

 

コージェライト素地

・C-11W ポーラスタイプ   低熱膨張
・S ポーラスタイプ   低熱膨張
・A ポーラスタイプ   低熱膨張

 

ステアタイト素地

・SB-12S 焼成温度/1300℃
・SB-8A 焼成温度/1300℃
・6A-SB 焼成温度/1300℃

 

リチア素地

・SP-10 焼成温度/1240~1270℃   低熱膨張
・Z-21 焼成温度/1160~1180℃

 

耐火素地

・シリマナイト素地 耐火度  SK 36
・NN-6 耐火度  SK 36

 

低火度磁器素地

・AN-3 低火度にて透光性を実現   焼成温度/1150℃  高強度

 

チタニア磁器素地

・Ti-80  

 

高効率遠赤外線放射体

・CAB-2  

 

コーチング剤

・サガーコート 匣鉢 セッター用 融着防止剤

 

チタン酸アルミ素地

・TM-19 ヒートショックに強い マシマブルセラミックス
・TM-20 ヒートショックに強い マシマブルセラミックス

 

マルスライト

・チタン酸アルミ製部材  

 

製造工程

 

※ご要望の組成調合及び、持込み原料の加工も受け賜ります。
製品の状態により品番が異なります。